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非接触式膜厚测量仪

非接触式膜厚测量仪

简要描述:非接触式膜厚测量仪是一款精准又好用的薄膜厚度测量设备。它能测低至20纳米的超薄薄膜,测量误差小于1纳米,最快每秒可测100次,重复测量精度高达0.05纳米。它采用双光源组合,覆盖紫外到红外全光谱,抗干扰能力强,在振动或复杂环境下也能稳定工作。

产品型号: HD-FT50UV

所属分类:膜厚仪

更新时间:2026-03-13

厂商性质:生产厂家

详情介绍
品牌霍尔德•电子类型薄膜
测量范围20nm~50μm产地国产

非接触式膜厚测量仪测试原理

反射膜厚仪基于白光干涉原理工作,光源发出的宽带光入射至待测薄膜表面后,经薄膜上下表面反射形成的两束反射光会因光程差产生干涉,干涉信号中包含薄膜厚度、光学常数等关键信息,设备通过探头采集干涉后的反射光谱,对特定波段范围内的光谱进行模型拟合后,即可反演解析出薄膜的厚度、光学常数及粗糙度等参数,整个系统由高强度组合光源提供宽光谱入射光,经光学系统传输至样品,反射光返回后由高速光谱模块采集信号,最终通过上位机软件完成数据处理与结果输出。


非接触式膜厚测量仪技术参数

型号HD-FT50UVHD-FT50NIR
建议工作距离非聚焦光束,安装距离5至10mm安装侧面出光附加镜时:34.5mm±2mm;
轴向出光时:55mm±2mm;
测量角度±10°±5°
光斑类型弥散光斑;在10mm安装距离时,光斑直径约为4mm;聚焦光斑;约200μm
探头外径*长度Φ6.35*3200mm³Φ20*73mm
探头重量190g108g(探头)、49g(附加镜)
光源类型氘卤光源卤素光源
波长范围190-1100nm400-1100nm;1000-1700nm
测厚范围约20nm~50μm(折射率1.5时)约50nm~50μm(折射率1.5时)
适配探头UV-VISVIS-NIR轴向;
VIS-NIR径向;(标配其一)
可连探头数量1
探头防护等级IP40
重复精度0.05nm
准确度<±1nm或±0.3%(取较大值)
采样频率Max.100Hz(视求解参数复杂度而定)
测控软件专用上位机软件
电源电压220V±20V50HzAC/
功率50W
工作温度-10至+40℃
相对湿度20%至85%RH(无冷凝)
控制器重量约5000g



非接触式膜厚测量仪








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