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光学膜厚仪

光学膜厚仪

简要描述:光学膜厚仪是一款精准又好用的薄膜厚度测量设备。它能测低至20纳米的超薄薄膜,测量误差小于1纳米,最快每秒可测100次,重复测量精度高达0.05纳米。它采用双光源组合,覆盖紫外到红外全光谱,抗干扰能力强,在振动或复杂环境下也能稳定工作。

产品型号: HD-FT50UV

所属分类:膜厚仪

更新时间:2026-03-13

厂商性质:生产厂家

详情介绍
品牌霍尔德•电子类型薄膜
测量范围20nm~50μm产地国产

光学膜厚仪应用领域

广泛应用于半导体与微电子制造、显示面板、光学器件制造、生物医学、汽车及新材料与新能源研发等领域,能满足从晶圆镀膜、显示面板薄膜到光学元件镀膜、医用植入物涂层、汽车玻璃膜层及新能源薄膜的高精度厚度检测需求,助力各行业提升产品质量与研发效率。


光学膜厚仪技术参数

型号HD-FT50UVHD-FT50NIR
建议工作距离非聚焦光束,安装距离5至10mm安装侧面出光附加镜时:34.5mm±2mm;
轴向出光时:55mm±2mm;
测量角度±10°±5°
光斑类型弥散光斑;在10mm安装距离时,光斑直径约为4mm;聚焦光斑;约200μm
探头外径*长度Φ6.35*3200mm³Φ20*73mm
探头重量190g108g(探头)、49g(附加镜)
光源类型氘卤光源卤素光源
波长范围190-1100nm400-1100nm;1000-1700nm
测厚范围约20nm~50μm(折射率1.5时)约50nm~50μm(折射率1.5时)
适配探头UV-VISVIS-NIR轴向;
VIS-NIR径向;(标配其一)
可连探头数量1
探头防护等级IP40
重复精度0.05nm
准确度<±1nm或±0.3%(取较大值)
采样频率Max.100Hz(视求解参数复杂度而定)
测控软件专用上位机软件
电源电压220V±20V50HzAC/
功率50W
工作温度-10至+40℃
相对湿度20%至85%RH(无冷凝)
控制器重量约5000g



光学膜厚仪







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